【半導体】キヤノン、5nm対応で消費電力が10分の1になる半導体製造装置を発売 [エリオット★]
https://asset.watch.impress.co.jp/img/pcw/docs/1538/780/1_o.png
キヤノン株式会社は、独自の「ナノインプリント」(NIL)技術を採用した半導体製造装置「FPA-1200NZ2C」を発売した。
半導体製造でもっとも重要となるのが、回路パターンをウェハに転写する露光装置だが、ウェハ上に塗布されたレジスト(樹脂)に光を照射して回路を焼き付ける手法が一般的。従来の手法では光学系という介在物があるため、プロセスノードの微細化は光源の波長の微細化に依存していた。
今回キヤノンが開発したNILでは、ウェハ上のレジストに、回路パターンを刻み込んだマスク(型)を押し付けて回路パターンを形成する。光学系を省くことでマスク上の微細な回路パターンを忠実に再現でき、複雑な2次元/3次元回路パターンを1回のインプリントで形成できるようになる。
この光学系を省いたシンプルな構造とすることで、既存の最先端ロジック向け露光技術(5nmノード/線幅15nm)における消費電力は、投影露光装置と比較して10分の1となり、CO2削減にも貢献できるという。加えて、3次元パターンも1回で形成できるため、数十nmの微細構造であるXR向けのメタレンズなど、半導体デバイス以外の用途にも活用できるという。
また、現在は既存の最先端ロジック半導体製造レベルである5nmノードにあたる最小線幅14nmのパターンを形成できるが、マスクを改良することで2nmノードにあたる最小線幅10nmレベルへの対応も期待される。
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光を当てると分光する光学素子。こうした立体微細構造を持つ半導体以外のデバイスも製造可能
□関連リンク
ナノインプリントリソグラフィ技術を使用した半導体製造装置を発売 シンプルな仕組みで微細な回路パターン形成を実現し幅広い半導体製造を実現 | キヤノングローバル
https://global.canon/ja/news/2023/20231013.html
ナノインプリントリソグラフィ | キヤノングローバル
https://global.canon/ja/technology/nil-2023.html
2023年10月13日 11:53
PC Watch
https://pc.watch.impress.co.jp/docs/news/1538780.html 消費電力が10分の1になるとかどうでもいい
本体価格でASMLより安くなっているかどうかが重要だろ ずいぶん時間がかかったが、遂に製品化したか…普及するか見もの 2nmになったら服が透けて見えるカメラができるの? NILはパターンがシンプルなDRAMやNAND向けと言われてたな
キオクシアとハイニックスの試作が終わっていよいよ量産化か 一家に一台あっていいな
お隣りの奥さんにも教えてあげよう すごいじゃないか
てっきり実用化無理かと思ってたよ YouTuberの買ってみた動画出るまでは様子見だな 歩留まりが悪いという短所も
指摘しないとダメでしょ
なんで長所だけの記事を書くかね >>2
本体価格はASMLより何十分の1
今2nm対応するために作業してる、実現可能らしい。 >>2
本体価格はASMLより何十分の1
今2nm対応するために作業してる、実現可能らしい。 はんこみたいなやり方なら平面取りシビアにやらないとだめなんじゃないかな これはintel大逆転の可能性が出てきたな。
今まで自社生産するメリットが全く活かせなくなっていたのが再活性化することで
業績回復するだろう。 別の記事読むと・・・
ナノインプリントリソグラフィ(NIL)技術を開発していた米企業を2014年に買収、その後完全子会社化。
試験導入としてキオクシアにFPA-1200NZ2Cを納入したのが2017年。
様々な問題点洗い出しと改良を経て目標とする歩留まり達成に目処がついたので今回の商用化・量産開始にこぎつける。
・・・こんな感じ。 結構長くいつ量産だってやってたな
技術力と研究力ないと企業はだめだな >>2
キヤノンのカメラは互換性の高いバッテリーを採用し続けてるから
計算処理の多いミラーレスカメラでも従来の一眼レフ機のバッテリーが使える
ただし、計算処理の分バッテリー消費が多く、900枚撮れていたのが200枚といったように
バッテリー大量に消費するので実用性に欠けている
今回の消費を軽減するパーツはそういった互換性重視のモデルで活躍できる >>27
NILの開発は以前からやってたのよ
米国企業買収したのは特許関係でSEDの二の舞を避けるため ついにASMLに対して反転攻勢か?
技術を突き詰めれば2nmも夢じゃない? ついにASMLに対して反転攻勢か?
技術を突き詰めれば2nmも夢じゃない? 電子の大きさを下回れ
とボケてみたが、実際2nmって実配線が設計より細くなったら電子も通らなくなるような気がした 台湾では半導体製造に使われる電力が多過ぎて政治問題になってるからな >>37
九州は再エネのポテンシャルも十分にあるけど、そもそもの消費電力を節約できるならそれに越したことはないね >今回キヤノンが開発したNILでは、ウェハ上のレジストに
>回路パターンを刻み込んだマスク(型)を押し付けて回路パターンを形成する
回路パターンを刻み込んだマスクはどうやって作るんだ?
知っている人、教えて。 >>38
さつまいもと彫刻刀を買ってきてだなあ... 技術云々より営業とか長期戦略とかそこら辺りで失敗しなければいいが 空前の注目度!半導体の技術展「SEMICON Japan」からライブリポート【橋本幸治の理系通信】(2022年12月15日)
https://www.youtube.com/watch?v=ZSUfjZmFifU&t=6868s
キヤノン【露光技術を置き換えるナノインプリント】 >>2
これ大事よな
日本の「良い物は高値で売れる」の負けフラグからの、「技術で勝ったがマーケティングで負けた」という負け惜しみは見飽きた
ラピダスが「安さの時代は終わった。これからは速さだ」と失敗確定だから、キャノンには頑張ってほしい >>23
>本体価格はASMLより何十分の1
ASMLは200億円/台だが 製造原価は1/4以下と言われている
すなわち1台売ると 150億円の粗利 半導体製造の次世代技術『UVナノインプリントリソグラフィ』普及へ大きな一歩
〜樹脂の選択・設計の指針を提示、半導体製造の効率化に貢献〜
https://www.tus.ac.jp/today/archive/20220809_8715.html 否決スレスレ「御手洗ショック」は来年もありうる
https://toyokeizai.net/articles/-/681240
賛成率わずか50.59%。キヤノンの御手洗冨士夫会長兼社長CEO(最高経営責任者)は危うく再任を否決されるところだった。今から3カ月前、3月30日の株主総会でのことだ。
キヤノンの大株主には機関投資家がずらりと並ぶ。女性取締役がゼロの場合、経営トップの再任に反対──主立った機関投資家はそんな基準を設けるようになった。それで御手洗会長は去年も75.28%と賛成率が低かった。 >>7
ホント?
ひでーな。
それとも元から高給なのかな。 >>70
【最新】2019年版 40歳年収 上位500社
https://toyokeizai.net/articles/-/300654?page=2
48位 ソニー 998万
121位 トヨタ自動車 857万
231位 日産自動車 797万
382位 富士通 746万
382位 リコー 746万
389位 NEC 744万
---500位の壁 723万----
圏外 キヤノン その5nmの回路が刻まれたマスクを物理的にウェハに接触させるって事だよね?
そんなのすぐマスクがダメになるんじゃ? 型ができたとして どうやって 位置を合わせて 多版刷りをやるんだよ
木版で年賀状を作るとき 版の位置合わせが一番難しい >>72
キャノンっていい噂ないけどな
御手洗は米国関係で怪しい噂多い 高性能半導体パッケージを低コスト・高歩留まりで製造
https://news.yahoo.co.jp/articles/b6d05296a2dd0a6975560fe7433f38e0bd1f312a
・高性能化
・低コスト化
・高歩留まり化
これもすごい半導体材料だな
世界の半導体大手が日本に急に押しかけだすわけだ >>73
>>74
そういう苦労はもちろんあるので実用化が難しい キャノンが作るものなのに、光学系を省くという段階にきているんだな・・・・ キャノンが作るものなのに、光学系を省くという段階にきているんだな・・・・ キャノンが作るものなのに、光学系を省くという段階にきているんだな・・・・ 何故か発売前に大陸に流出
ハーウェイのキリンが超高性能に https://global.canon/ja/technology/nil-2023.html
常識を大きく変える半導体業界のイノベーター
ナノインプリントリソグラフィ
半世紀にわたって半導体チップの製造を担ってきた技術分野に、
いま、革新的な技術が加わろうとしています。
キヤノンは、ウエハーを高速かつ正確に動かすウエハーステージや、高精度な位置合わせなど、
これまで半導体露光装置で培った技術を生かし、
世界に先駆けナノインプリントリソグラフィの量産化に向けて取り組んでいます。 Micron Is Said to Get $1.5 Billion From Japan for Next-Generation Chips
https://youtu.be/7slPShYngfg ついにナノインプリント来たか!
製造も激安になるしマジでゲームチェンジャーになる >>51
ウシオはASML用の紫外線照射装置でしょ?
NILにも絡んでるの? 最小線幅14nmだから液浸と似たような多重で微細化を実現したんかな??
それなら歩留まりも上がりにくいだろうし、まだまだASMLの優位性は崩せなそうだな >>73
スタンパーのネガを金型で作ってスタンパーは何回使い回すかは別にして使い捨て
>>74,85
位置合わせに光学系を使う >>73
「ネガを金型で」ではなく「ネガになる金型を」だわ 半導体メーカー関係者「キヤノンは歩留まりが悪いから」
この定説を覆さす事ができるかどうかが勝負
1台50億円の製造装置だけど未完成でだすなよ
ちゃんとマトモなレシピで出せよ ナノインプリント技術?歩留まりが悪いのを改善しろよ
話はそれからだ
何年、ナノインプリント、ナノインプリント言ってるんだよ
こっちが悪い?お前のところを改善しろよ
ASMLに負けてるぞ