【半導体】キヤノン、5nm対応で消費電力が10分の1になる半導体製造装置を発売 [エリオット★]

0001へっぽこ立て子@エリオット ★2023/10/15(日) 00:59:41.53ID:yTyjmVaZ
https://asset.watch.impress.co.jp/img/pcw/docs/1538/780/1_o.png

 キヤノン株式会社は、独自の「ナノインプリント」(NIL)技術を採用した半導体製造装置「FPA-1200NZ2C」を発売した。

 半導体製造でもっとも重要となるのが、回路パターンをウェハに転写する露光装置だが、ウェハ上に塗布されたレジスト(樹脂)に光を照射して回路を焼き付ける手法が一般的。従来の手法では光学系という介在物があるため、プロセスノードの微細化は光源の波長の微細化に依存していた。

 今回キヤノンが開発したNILでは、ウェハ上のレジストに、回路パターンを刻み込んだマスク(型)を押し付けて回路パターンを形成する。光学系を省くことでマスク上の微細な回路パターンを忠実に再現でき、複雑な2次元/3次元回路パターンを1回のインプリントで形成できるようになる。

 この光学系を省いたシンプルな構造とすることで、既存の最先端ロジック向け露光技術(5nmノード/線幅15nm)における消費電力は、投影露光装置と比較して10分の1となり、CO2削減にも貢献できるという。加えて、3次元パターンも1回で形成できるため、数十nmの微細構造であるXR向けのメタレンズなど、半導体デバイス以外の用途にも活用できるという。

 また、現在は既存の最先端ロジック半導体製造レベルである5nmノードにあたる最小線幅14nmのパターンを形成できるが、マスクを改良することで2nmノードにあたる最小線幅10nmレベルへの対応も期待される。

https://asset.watch.impress.co.jp/img/pcw/docs/1538/780/2_o.jpg
光を当てると分光する光学素子。こうした立体微細構造を持つ半導体以外のデバイスも製造可能

□関連リンク
ナノインプリントリソグラフィ技術を使用した半導体製造装置を発売 シンプルな仕組みで微細な回路パターン形成を実現し幅広い半導体製造を実現 | キヤノングローバル
https://global.canon/ja/news/2023/20231013.html
ナノインプリントリソグラフィ | キヤノングローバル
https://global.canon/ja/technology/nil-2023.html

2023年10月13日 11:53
PC Watch
https://pc.watch.impress.co.jp/docs/news/1538780.html

0193あぼーんNGNG
あぼーん

0194名刺は切らしておりまして2023/11/12(日) 18:30:17.44ID:AnVvFqRV
>>193
凄く良いじゃん

0195名刺は切らしておりまして2023/11/12(日) 18:44:44.35ID:yztkkoas
スクリーンの洗浄装置バカ売れかな

0196名刺は切らしておりまして2023/11/14(火) 22:05:44.12ID:AAEdfAh9
>>52
╳キャノン ○キヤノン

0197名刺は切らしておりまして2023/12/01(金) 22:08:44.20ID:IUfP0HBr
シヤチハタ
ジヤトコ
椿本チエイン

0198名刺は切らしておりまして2023/12/01(金) 22:12:03.23ID:IUfP0HBr
【半導体】キヤノンなど先端半導体で連携 経産省、420億円支援 [田杉山脈★]
https://egg.5ch.net/test/read.cgi/bizplus/1616484083/l50

0199名刺は切らしておりまして2023/12/01(金) 22:21:40.29ID:Nnq9IbVr
型は電子ビームだろ

0200名刺は切らしておりまして2023/12/01(金) 22:54:25.54ID:LqJP7ZE4
微細化はもう限界。
ロジックの次世代4、5nmノード対応。
3nmのまともなものはTSMCしか出来ないし、いけるじゃない?

0201名刺は切らしておりまして2023/12/01(金) 22:56:48.19ID:LqJP7ZE4
⭕ロジックの4、5nmノード対応。
❌ロジックの次世代4、5nmノード対応。

0202名刺は切らしておりまして2023/12/03(日) 09:37:00.36ID:7yaFmJZP
>>199
だから、モールドをまともに製造できるベンダーが限定されるし、
等倍パターンだからメチャクチャ難易度が高い上に、保証も超絶困難

0203名刺は切らしておりまして2023/12/03(日) 10:02:17.38ID:dI9B0Sk5
Googleも土下座 あの「味の素」が半導体を独占していた
https://www.youtube.com/watch?v=2_AkjxGcML0

0204名刺は切らしておりまして2023/12/03(日) 10:03:46.75ID:dI9B0Sk5
半導体、日本企業に目が出てきた
https://www.nikkei.com/article/DGXZQOUC10DEC0Q1A910C2000000/
キオクシア、キヤノン、大日本印刷はハンコを押すように回路を形成する「ナノインプリント」を
2025年にも実用化する。一部の工程が不要になり、設備投資を数百億円、
製造コストを4割減らせる見込み。日本勢が再び存在感を高められそうだ

0205名刺は切らしておりまして2023/12/03(日) 10:15:00.37ID:dI9B0Sk5
折りたためるPC「ThinkPad X1 Fold」に2代目登場
https://www.itmedia.co.jp/pcuser/articles/2209/01/news098.html

0206名刺は切らしておりまして2023/12/03(日) 11:33:25.91ID:MHCDhrLj
>>202
保証って何の話?今だって不良率はそれなりにあって、検品は必須だぞ

0207名刺は切らしておりまして2023/12/03(日) 12:17:26.62ID:7yaFmJZP
>>206
フォトリソの原版になるフォトマスクの納品で、
客が指定したパターンの線幅精度や欠陥については、
マスクベンダが全部検査して保証してるだろ

原版になる一品物のマスクと、大量生産の半導体そのものを混同してないか?

0208名刺は切らしておりまして2023/12/03(日) 16:23:17.68
5nmだと宇宙線の影響受けるんだよな

0209名刺は切らしておりまして2023/12/03(日) 19:01:16.69ID:MHCDhrLj
>>207
モールドと分業する必要がそもそもないけど、検査自体はやりたきゃあ電子顕微鏡等で等倍でも特に困難なくやれるだろ

0210名刺は切らしておりまして2023/12/03(日) 21:40:43.40ID:fxHsRyr+
ちょっと調べてみた
マスクの原板は大日本印刷が製造してキヤノンのマスクレプリカ製造装置で複製してそれをNILで使う
レプリカ製造はたぶん半導体メーカーがやるんじゃね

0211名刺は切らしておりまして2023/12/04(月) 06:31:27.62ID:z1S+cP4T
・マスターモールドの製造設備は、基本的にフォトマスクベンダが抱えてる
・モールドパターンは等倍だから、プロセス・検査共に精度が段違い
・モールドは絶縁体だから、フォトマスク専用SEMに帯電対策が必要
・モールドはパターン高さも重要だから、AFMでの多点計測が必要
・レプリカ装置は転写だけで、その後ハードマスクと石英のエッチングが必要
・レプリカモールドも使用前には、マスターと同等の検査とそれ用の設備が必要

モールド周りは実際に使う以前に、ざっと考えただけでもこれだけ課題が有る
ずっとNILが眉唾扱いなのは、これを誰も負担したくない上に、
転写にもスループット、アライメント、異物・欠陥の根本的課題が有るからだよ

0212名刺は切らしておりまして2023/12/04(月) 13:03:31.17ID:8Fq6wa+e
>>211
不良率が高いならその都度検査も有用だろうけど、低いなら、作ってみて動作がおかしいときに、原因究明のために
やればいいだけじゃね?

0213名刺は切らしておりまして2023/12/04(月) 13:07:48.52ID:yxi4aPua
>>212
原版であるモールドやフォトマスクで、そんなぬるいことを言う半導体メーカーは無い

0214名刺は切らしておりまして2023/12/04(月) 15:00:40.35ID:szximpG4
ま、層辺りのビット密度がMicronやSK の1.5倍近くあるBics8はDUVでは不可能なような気がするがの 真相はわからん

0215名刺は切らしておりまして2023/12/04(月) 18:25:17.95ID:8Fq6wa+e
>>213
と言っても、今は複雑な立体構造を組んでるが、マスクをいくら検査しても立体構造は検査できんからな

うまく動作しない場合は現物の断面を調べるとかやるしかないわけで、実は>>212状態で、もちろん等倍

惰性で、やれる検査はやりつつやれない検査には目を瞑って仕事してるふりしてるだけだから、実はどうでもいい

0216名刺は切らしておりまして2023/12/05(火) 07:06:07.12ID:SEmPVpn0
>>215
プロセスで生じる不良はチップの選別で対応できるけど、
マスクやモールドの不良は全チップに影響が出るから、
クリティカルな部分は確実に、検査と保証を発注仕様に盛り込みますよ

フォトマスクなんてそのために、一か所ごとに修正する技術も開発しているのに、
そんなことも知らないで「どうでもいい」なんて、それこそ適当過ぎるよ…

0217名刺は切らしておりまして2023/12/05(火) 13:21:38.01ID:gOHT1058
>>216
>プロセスで生じる不良はチップの選別で対応できるけど、

全チップに影響が出ることもあるのに、お前は何を言ってるんだ?

>クリティカルな部分は確実に、検査と保証を発注仕様に盛り込みますよ

立体構造がちゃんとできてないと動かないけど、そこはスルーなんだろ?

それって、お前が「クリティカルな部分」を自分の都合のよいように定義してるだけ

0218名刺は切らしておりまして2024/01/09(火) 14:08:41.21ID:zfkheZKx
3Dプリンタの時代は終わったな
これからはナノの時代よ

0219名刺は切らしておりまして2024/01/09(火) 14:27:53.37ID:RXTRuCqR
よし、SEDも復活させよう

0220名刺は切らしておりまして2024/01/23(火) 14:23:58.67ID:pixwFwP7
原盤というかハンコの方どーやって作るのさ?
繰り返し回路のメモリならできそうに思うがランダムロジックじゃ無理っぽくね?

0221名刺は切らしておりまして2024/01/23(火) 14:27:41.51ID:pixwFwP7
JOLEDのインクジェット方式に加えてナノインプリント
ニッチな方向求めてそれすら失敗する構図がパターン化してないか?日本のエレクトロニクス

0222名刺は切らしておりまして2024/01/23(火) 14:27:52.50ID:aOfnRpBc

0223名刺は切らしておりまして2024/01/23(火) 14:47:20.80ID:CrFlkbQm
>>046
多分年賀状作りより細かい作業だから虫眼鏡もいる。

0224名刺は切らしておりまして2024/01/23(火) 16:33:43.99ID:rLSMggMQ
すごいね。日本は、敗北したと思っていたよ。

0225名刺は切らしておりまして2024/01/23(火) 18:13:40.56ID:rbnd16Yp
>>220
EB描画

0226名刺は切らしておりまして2024/01/25(木) 00:05:45.90ID:afMbAqqk
>>221
JOLEDの印刷方式の製造装置はSE社のインクジェット技術を使ってるんだよ
有機EL蒸着装置を作っているキヤノンは競合技術が自滅してラッキーと思ってるのでは

0227名刺は切らしておりまして2024/01/25(木) 12:24:22.77ID:zRxmq1Qi
モールド自体はEB描画でパターンを描けるけど、
その等倍パターンを無欠陥かつほぼ無修正で仕上げなきゃならんのがな…

しかも、パターンが細かくなるほどモールドのアスペクト比が上がって、
作るのも難しくなるし、転写で壊れやすくなるというオチが付く

0228社説+で新規スレ立て人募集中2024/02/03(土) 15:59:22.79ID:+LkvOcMA
Japan's Canon says interest in new chipmaking tools exceed expectations
https://www.reuters.com/technology/japans-canon-says-interest-new-chipmaking-tools-exceed-expectations-2024-01-30/
髪の毛1本に5000本の線! スタンプで描く半導体の未来
https://global.canon/ja/technology/interview/nanoimprint/

0229社説+で新規スレ立て人募集中2024/02/03(土) 17:33:59.57ID:z9hPnUE/
やっぱ時代は光半導体かよ
まあ当然の帰結だよな
くぅぅーーーっ!ちびりそうだわ

0230社説+で新規スレ立て人募集中2024/02/05(月) 11:41:24.74ID:GqXuMBna
>>36
微細化の弊害って
通らないより、壁を通り抜けてしまう
じゃなかったっけ?

0231社説+で新規スレ立て人募集中2024/02/05(月) 12:06:15.34ID:RPB1Efmi
>>230
微細化の弊害なんて言い出したらきりがない
α線一個でメモリの内容変わったら使い物にならないからそこらへんが限界かな

0232社説+で新規スレ立て人募集中2024/02/05(月) 12:17:20.93ID:21slcShd
分子単位のマスターマスク成型ってどうやるんだろう。まして洗浄工程も頻繁に必要になりスループットが落ちるんじゃ?

0233名刺は切らしておりまして2024/02/13(火) 00:17:26.97ID:AoEUNGgs
そっち方面で頑張ってくれよ
国内のコピー機販売はやめてくれよ

0234名刺は切らしておりまして2024/02/13(火) 02:08:48.93ID:ZVVUH7W6
原子レベルの半導体作らないと

0235名刺は切らしておりまして2024/02/20(火) 16:38:18.07ID:qj1kqh0t
"半導体製造用ナノインプリント技術の開発状況と課題、対策"
https://tech-seminar.jp/node/57638

0236名刺は切らしておりまして2024/03/09(土) 16:20:40.81ID:vqnfrl4c
Nanoimprint lithography coming into its own
https://spie.org/news/nanoimprint-lithography-coming-into-its-own

0237名刺は切らしておりまして2024/03/09(土) 17:42:12.06ID:RxUKe0i4
現像室から作業員を解放してやって欲しい
黄色いランプは眼に悪い

0238名刺は切らしておりまして2024/03/10(日) 23:41:22.25ID:WsxHQlZS
>>237
レジスト屋に言えよw

0239社説+で新規スレ立て人募集中2024/05/04(土) 16:45:56.17ID:E8H6Tw5a
富士フイルム株式会社(本社:東京都港区、代表取締役社長・CEO:後藤 禎一)は、半導体製造技術「ナノインプリントリソグラフィ」に適合する半導体材料として、ナノインプリントレジストを5月下旬より、電子材料事業の中核会社である富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ株式会社(本社:神奈川県横浜市、代表取締役社長:小林 茂樹)を通じて販売します。
https://www.fujifilm.com/jp/ja/news/list/11339

0240社説+で新規スレ立て人募集中2024/05/04(土) 17:22:10.41ID:XcUYA5gQ
>>239
富士とキヤノソか~時代だな
KodakもMINOLTAも氏に体だし
ンニーは元気だなw
あれニコソは?おリンパは?

0241社説+で新規スレ立て人募集中2024/05/04(土) 23:10:24.90ID:XT4Ey9OW
こんなのばっか作ってないでCPU作ってしまえよ

0242社説+で新規スレ立て人募集中2024/05/05(日) 10:01:10.01ID:ZRUIBJ6l
>>241
老害ワロタ

0243社説+で新規スレ立て人募集中2024/05/05(日) 10:01:27.54ID:ZRUIBJ6l
文系ニワカ老害

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