この記事で国際研究機関のimecが3nmプロセスまでは銅配線の方が
コバルトやルテニウムよりも低抵抗で優れてると実証したって発表してるが
インテルだけが悪夢の10nmで微細メタル層を銅からコバルト配線に変えてるんだよね
https://www.semiwiki.com/forum/attachments/content/attachments/20880d1513792840-intel-interconnect-stack-revised.jpg