2次元半導体の基盤技術に..物材機構と東大、二硫化モリブデンの単層単結晶膜を形成
物質・材料研究機構(NIMS)の佐久間芳樹NIMS特別研究員と東京大学の長汐晃輔教授らは、二硫化モリブデン(MoS2)の単層単結晶の成膜技術を開発した。
2インチウエハーの全域に均一な膜を作れる。
二硫化モリブデンはサブ1ナノ世代の2次元半導体の材料になる。
トランジスタを作製したところ高い移動度を確認した。
2次元半導体の基盤技術になる可能性がある。
(以下略、続きはソースでご確認ください)
ニュースイッチ 1/26(月) 16:10
https://news.yahoo.co.jp/articles/6c32a8833be70f33f8c0edd4036adf865e958c5f
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【半導体材料】2次元半導体の基盤技術に..物材機構と東大、二硫化モリブデンの単層単結晶膜を形成 [すらいむ★]
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2026/01/26(月) 23:13:53.87ID:/RH57xsSレスを投稿する
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