大日本印刷（DNP）、ラピダス向けEUVマスクの完成間近　異例の短納期に応える
日経エレクトロニクス　2025.10.10

大日本印刷（DNP）はRapidus（ラピダス、東京・千代田）向けのフォトマスク（回路原版）の開発を
2025年内にも完了する。　2nm（ナノメートル）世代の演算用半導体の量産に使う部材で、

EUV（極端紫外線）露光と呼ぶ最先端技術に対応する。ラピダスの千歳工場（北海道千歳市）での
半導体試作向けに提供していると見られ、2027年から量産する。台湾積体電路製造（TSMC）など
海外大手からの受注も狙い、2031年3月期にEUVフォトマスクの売上高を100億円規模に高める。