「第2のムーアの法則」提唱…半導体再興へ、チップレット配線を微細化
大阪公立大学の笹子勝客員教授は、パナソニックでエキシマレーザーを使った半導体微細加工向けリソグラフィー技術を開発。
28ナノメートル(ナノは10億分の1)世代までの相補型金属酸化膜半導体(CMOS)の量産も手がけた。
前工程を中心としたこれらの経験を踏まえ、現在は3次元(3D)実装に向けた横方向のチップレット配線技術を研究する。
同大の半導体超加工・集積化技術研究所では、チップ間配線の微細化に向け、量子ビームやナノインプリントなどの技術を融合。
「この再配線層(RDL)を微細化する『第2のムーアの法則』により、今後すべてのデバイスがチップレットになる」と見通す。
(以下略、続きはソースでご確認ください)
ニュースイッチ 9/8(日) 15:10
https://news.yahoo.co.jp/articles/56a178720db3bc36ae692680caf998dcd0ef9bae
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2024/09/08(日) 18:04:13.60ID:EGb1mWD4■ このスレッドは過去ログ倉庫に格納されています
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