【半導体】OIST、消費電力従来比1/10以下のEUVリソグラフィー半導体製造技術を提案 [すらいむ★]

**すらいむ ★** · 2024/07/30(火) 23:09:26.08

OIST、消費電力従来比1/10以下のEUVリソグラフィー半導体製造技術を提案

　沖縄科学技術大学院大学(OIST)は7月29日、小型のEUV光源でも動作し、消費電力が従来の10分の1以下にまで減らせる、これまでの先端半導体製造の常識を覆す「EUV(極端紫外線)リソグラフィー」技術を提案したことを発表した。

　同成果は、OIST 量子波光学顕微鏡ユニットの新竹積教授によるもの。
　査読前プレプリントが「arXiv」に掲載されている。

（以下略、続きはソースでご確認ください）

マイナビニュース　2024/07/30 19:09
https://news.mynavi.jp/techplus/article/20240730-2995773/

**名無しのひみつ** · 2024/07/30(火) 23:21:26.83

良きかな

**名無しのひみつ** · 2024/07/30(火) 23:54:53.35

このリソグラフって印刷でもあるけど同じなの？

**名無しのひみつ** · 2024/07/31(水) 06:06:47.65

https://ja.wikipedia.org/wiki/%E3%83%AA%E3%83%88%E3%82%B0%E3%83%A9%E3%83%95
リトグラフ (lithograph）とは版画の一種たる平版画

・油脂分の強い描画材（リトクレヨン、ダーマトグラフ、解き墨、チンクタール、インク、油性マジックなど）を用いて版面に描画する。

・描画材がかわいたらタルク（アラビアガムの水分から描画部を保護）、ラズン（アラビアガムの酸から描画部を保護）
を描画部に塗布、その後アラビアガムを版全体にスポンジで垂直に塗布。

・アラビアガムの層を通して灯油やテレピン油（描画にマジックやボールペンを使った場合はシンナー）を使って描画材を落とす

・描画材がおちたらエゲンラッカー、チンクタールを描画した部分に薄くのばす。

・水をかけてアラビアガムを落とす

**名無しのひみつ** · 2024/07/31(水) 06:08:53.73

・版面を乾かさないよう、スポンジなどで版面を常に湿らしながら製版インクを製版用皮ローラーで盛る

・版を乾かしタルク、ラズン、アラビアガムをぬり、2分ほど放置した後もう一度アラビアガムをぬり直してガーゼなどで拭き取り、1時間ほど放置する

・インクの硬さを調節し、インク練り台の上で印刷用ゴムローラーに延ばす

・製版インクをテレピンや灯油でおとし、水をかけてアラビアガムも落とす

・版を乾かさないようスポンジで湿らせながら、描画した部分にインクをすり込む。

・ゴムローラーでプリントインクを盛る

・圧をかけて刷る。

手間がかかる作業だなあ
これが古典的なリ「ト」グラフ
世界的にもthを前歯に掛かった変な音で発音する方が少数派だｗ
日本では芸術用語は明治時代以降イタリア語とかをベースにした場合が多いので
こんな表記になった

**安倍晋三** · 2024/07/31(水) 06:22:45.77

>>2
いかりや長介「OIST！」

**名無しのひみつ** · 2024/07/31(水) 06:24:34.56

https://ja.wikipedia.org/wiki/%E3%83%95%E3%82%A9%E3%83%88%E3%83%AA%E3%82%BD%E3%82%B0%E3%83%A9%E3%83%95%E3%82%A3

フォトリソグラフィ（英語: photolithography）は、感光性の物質を塗布した物質の表面を、パターン状に露光
（パターン露光、像様露光などともいう）することで、露光された部分と露光されていない部分からなるパターンを生成する技術。
主に、集積回路、プリント基板、印刷版、液晶ディスプレイパネル、プラズマディスプレイパネルなどの製造に用いられる。

19世紀のリトグラフは酸と油で版を一部溶かして凹ませたが
各種の光で凹凸を作る方法が
フォトリソグラフィだ
世界の最新技術は大体英語になってしまったｗ

光も紫外線とか(その中でも特に波長の短い「極端紫外線」)を使うものなどが出来ている
このEUV露光装置はオランダのASML社が独占している

印刷とかカメラってペーパーレス時代に時代遅れと思ってしまう人がいるが
ハードウェア製造分野を支える最先端技術になってるんだよなあ

**名無しのひみつ** · 2024/07/31(水) 09:23:08.41

EUVリソグラフィって最先端の製造技術だろうけど、次の技術に移る前に今回のこれは実用で採用されるんだろうか

警備員[Lv.10][芽] · 2024/07/31(水) 10:04:55.23

すごいの？

**名無しのひみつ** · 2024/07/31(水) 13:47:16.66

>>1

（｀ハ´）研究忙しいアルか？留学生を送って手伝うアルよ

<丶｀∀´>　研究者に旅費と小遣い出すから土日に遊びに来させるニダ

**名無しのひみつ** · 2024/07/31(水) 17:03:56.59

今って微細化行き詰ってるから
低消費電力でも売りになるんかね

**名無しのひみつ** · 2024/07/31(水) 18:06:02.77

挫折したニコン辺りはやるかもな

**名無しのひみつ** · 2024/07/31(水) 18:35:35.19

実証できれは先端チップが安くなるのは確定だろうから成功してくれ

**名無しのひみつ** · 2024/07/31(水) 21:57:57.55

>>11
ならんわ
そもそもEUV実用化がオランダだけ
ニッチなニュースだわ

**名無しのひみつ** · 2024/07/31(水) 22:30:40.60

>>14
キャノン、ニコンを忘れるなよ

**名無しのひみつ** · 2024/08/01(木) 00:41:04.22

波長より小さい回折領域の寸法のパターニングをリソグラフィと称するのはかなり狭義のリソグラフィだと思う

**名無しのひみつ** · 2024/08/01(木) 18:24:23.39

電磁波は電界と磁界が進行方向に対して垂直になり、進んで行きます。
縦偏光、横偏光、円偏光、それぞれの光で、縦に細長いパターンを描いたときに、
シャープな線がレジスト上に描けるのはどちらか。　（配点5点）

**名無しのひみつ** · 2024/08/01(木) 22:23:31.83

>>1
7/30
OIST、消費電力従来比1/10以下のEUVリソグラフィー半導体製造技術を提案
https:
//news.mynavi.jp/techplus/article/20240730-2995773/
https:
//news.mynavi.jp/techplus/article/20240730-2995773/images/001.jpg
https:
//news.mynavi.jp/techplus/article/20240730-2995773/images/002.jpg

7/29
エネルギー効率を飛躍的に高める革新的なEUVリソグラフィー先端半導体製造技術を発表
https:
//www.oist.jp/ja/news-center/news/2024/7/29/innovative-euv-lithography-technology-dramatically-increases-energy-efficiency-and-reduces-capital

**名無しのひみつ** · 2024/08/01(木) 22:23:46.69

7/31
半導体向けEUV露光装置　沖縄科技大、低コスト化技術
https:
//www.nikkei.com/article/DGXZQOCD319PO0R30C24A7000000/
8/1
半導体露光装置コスト大幅減、消費電力1割　沖縄科技大
https:
//www.nikkei.com/article/DGXZQOCD295360Z20C24A7000000/

**名無しのひみつ** · 2024/08/01(木) 22:46:04.58

ナイスト
ジャイスト
オイスト
俺が行ってたら自〇してたかもしれん

**名無しのひみつ** · 2024/08/02(金) 06:24:32.06

これってどれくらい現実性・実用性あるの？
今の段階はただのシミュレーションでしょ。

**名無しのひみつ** · 2024/08/02(金) 23:17:08.19

>>18
想定の装置価格が高い
ニコンキヤノンに1台100～200億する装置の開発費はないな
ワンチャンでASMLが光源ユニットを交換するくらいか

**名無しのひみつ** · 2024/08/03(土) 02:45:43.88

鏡の枚数を減らせば、光源が少し暗くてもOKになるし、
装置の振動や気流の乱れなどによる光像の揺らぎを
抑えることもできるのだろう。いいね。

**名無しのひみつ** · 2024/08/07(水) 08:08:37.05

>>19
7/30
革新的なEUVリソグラフィー技術が半導体製造を劇的に変える
https:
//xenospectrum.com/innovative-euv-lithography-technology-dramatically-changes-semiconductor-manufacturing/

7/31
半導体向けEUV露光装置　沖縄科技大、低コスト化技術
https:
//www.nikkei.com/article/DGXZQOCD319PO0R30C24A7000000/
... 大量のエネルギーを使うEUV光源の消費電力を桁違いに削減できる。企業と協力して同装置の国産化を目指す。 ...

装置の構造も大幅に簡素化できるため、現在200億円程度とされる装置の導入コストもほぼ半減できるという。 ...

OISTは今後、実機-の2分の1スケールの装置で発光ダイオード（LED）を使った実証試験をした後に、2025年からEUV0での実証を計画している。新竹教授は「企業と協力して26年にも初号機を開発したい」と話す。

8/1
半導体EUV露光、電力10分の1に　OISTが光学系新提案
https:
//www.nikkei.com/prime/tech-foresight/article/DGXZQOUC3173L0R30C24A7000000
https:
//article-image-ix.nikkei.com/https%3A%2F%2Fimgix-proxy.n8s.jp%2FDSXZQO5168728031072024000000-1.png?s=414e7e7960e454e48cf04efd949554fa.jpg