IBMが5nmプロセスのチップ製造に成功、世界初のEUVリソグラフィ実用化へ
http://gigazine.net/news/20170606-ibm-5nm-chip/
IBMが開発に成功したのは、回路幅が5nmのプロセスルールで、
世界初の「(Extreme ultraviolet lithography(EUV：極端紫外線リソグラフィ)」技術を用いて製造したもの。
IBMには、半導体製造のGlobalFoundriesとSamsungが技術協力しています